薄膜沉積是指物理氣相沉積(PVD)、化學氣相沉積(CVD)和原子層沉積設備。
原子層沉積設備是一種重要的膜沉積設備。由于ALD技術的表面化學反應自限，具有優異的三維共性，大面積膜的均勻性和準確的膜厚度控制。廣泛應用于不同環境下的膜沉積。光伏、半導體、柔性電子、MEMS、催化劑、光學設備等高科技領域具有良好的工業前景。
近年來，我國原子層沉積設備下游產業發展迅速，推動了原子層沉積設備市場的快速發展。
在光伏領域，在政策和人力資源的大力支持下，我國光伏產業發展迅速，具有成本優勢。與此同時，中國自2010年以來一直是世界上較大的光伏設備市場。2020年，中國光伏設備行業規模超過280億元。
在半導體領域，中國正處于新一代智能手機、物聯網、人工智能、5g通信等行業快速崛起的過程中，成為世界上重要的半導體應用和消費市場之一。2020年，中國集成電路行業銷量8.848億元，比2019年增長17%。2020年，受疫情影響，中國集成電路行業銷量仍在穩步增長。
LCD和OLED是中國新顯示領域的主流顯示技術。隨著行業的不斷升級，Mini/MicroLED等新顯示技術的市場規模從中長期來看將迅速提升。
原子層沉積設備的設計和制造涉及化學、物理、工程等學科的跨境綜合應用。ALD技術是一種特殊的真空薄膜沉積方法。因此，該行業對企業的技術實力、財務實力和團隊實力有較高的要求。在早期階段，中國的原子沉積設備主要由外國制造商壟斷。近年來，隨著當地企業研發和投資的不斷加強，當地制造商的崛起。
